DISQUE DE POLISSAGE 7-1/2 MOUSSE MOYENNE - T-01236
MAKT01236
Prix régulier
$30.11
- Installation et retrait sans endommager le thread
- Les cellules partiellement fermées sont modelées stratégiquement pour améliorer considérablement les performances de polissage en dispersant uniformément le composé / polissage sur la surface de travail
- Un taux plus lent d’absorption du polissage améliore les performances de polissage
- La tension superficielle réduite permet à l’opérateur de faire fonctionner le tampon à plat sur la surface de travail avec un saut de tampon considérablement minimisé
- Les poches ccs libèrent graduellement le composé/polissage au besoin, ce qui se traduit par un contrôle accru de l’opérateur
- La réduction du contact de surface génère moins de friction et de chaleur
- Les bords incurvés facilitent le polissage dans les coins et le long des bords
- Crochet et sauvegarde de boucle
- Installation et retrait sans endommager le thread
- Les cellules partiellement fermées sont modelées stratégiquement pour améliorer considérablement les performances de polissage en dispersant uniformément le composé / polissage sur la surface de travail
- Un taux plus lent d’absorption du polissage améliore les performances de polissage
- La tension superficielle réduite permet à l’opérateur de faire fonctionner le tampon à plat sur la surface de travail avec un saut de tampon considérablement minimisé
- Les poches ccs libèrent graduellement le composé/polissage au besoin, ce qui se traduit par un contrôle accru de l’opérateur
- La réduction du contact de surface génère moins de friction et de chaleur
- Les bords incurvés facilitent le polissage dans les coins et le long des bords
- Crochet et sauvegarde de boucle
MAKT01236
Prix régulier
$30.11
- Installation et retrait sans endommager le thread
- Les cellules partiellement fermées sont modelées stratégiquement pour améliorer considérablement les performances de polissage en dispersant uniformément le composé / polissage sur la surface de travail
- Un taux plus lent d’absorption du polissage améliore les performances de polissage
- La tension superficielle réduite permet à l’opérateur de faire fonctionner le tampon à plat sur la surface de travail avec un saut de tampon considérablement minimisé
- Les poches ccs libèrent graduellement le composé/polissage au besoin, ce qui se traduit par un contrôle accru de l’opérateur
- La réduction du contact de surface génère moins de friction et de chaleur
- Les bords incurvés facilitent le polissage dans les coins et le long des bords
- Crochet et sauvegarde de boucle
- Installation et retrait sans endommager le thread
- Les cellules partiellement fermées sont modelées stratégiquement pour améliorer considérablement les performances de polissage en dispersant uniformément le composé / polissage sur la surface de travail
- Un taux plus lent d’absorption du polissage améliore les performances de polissage
- La tension superficielle réduite permet à l’opérateur de faire fonctionner le tampon à plat sur la surface de travail avec un saut de tampon considérablement minimisé
- Les poches ccs libèrent graduellement le composé/polissage au besoin, ce qui se traduit par un contrôle accru de l’opérateur
- La réduction du contact de surface génère moins de friction et de chaleur
- Les bords incurvés facilitent le polissage dans les coins et le long des bords
- Crochet et sauvegarde de boucle